創(chuàng)新是企業(yè)發(fā)展的根本動(dòng)力，高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定政策是一項(xiàng)引導(dǎo)政策，不僅可以提升企業(yè)品牌形象，提高企業(yè)市場(chǎng)價(jià)值和資本價(jià)值，還可以享受稅收減免優(yōu)惠政策等其他優(yōu)惠政策。

什么是高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定的關(guān)鍵，申報(bào)過(guò)的企業(yè)或許會(huì)有一些感觸，那就是專利。但是對(duì)于認(rèn)定高新技術(shù)企業(yè)需要多少個(gè)專利，說(shuō)法不一。

說(shuō)法一申報(bào)高新技術(shù)企業(yè)需只要1個(gè)發(fā)明專利或者5個(gè)實(shí)用新型

在高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定評(píng)分標(biāo)準(zhǔn)中，核心自主知識(shí)產(chǎn)權(quán) 30分，科技成果轉(zhuǎn)化能力 30分，研究開發(fā)的組織管理水平 20分，成長(zhǎng)性指標(biāo) 20分。

而知識(shí)產(chǎn)權(quán)部分的評(píng)分由技術(shù)的先進(jìn)程度，對(duì)主要產(chǎn)品（服務(wù)）在技術(shù)上的發(fā)揮核心支持作用，知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量，獲得方式，以及企業(yè)制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、檢測(cè)方法、技術(shù)規(guī)范情況相關(guān)指標(biāo)構(gòu)成。其中知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量里的量化標(biāo)準(zhǔn)為1個(gè)發(fā)明專利可以獲得知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量方面的滿分（8分），如果是5個(gè)實(shí)用新型的話最高只可以拿到6分。

這里是高企審核制度中對(duì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量最明確的量化要求。以此為評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)，可以得出，高企申報(bào)只要1個(gè)發(fā)明專利或至少5個(gè)實(shí)用新型。

說(shuō)法二申報(bào)高新技術(shù)企業(yè)需要15-18個(gè)專利

以企業(yè)成立年限計(jì)算，成立3年以上的企業(yè)需要擁有15-18個(gè)專利，而成立3年以內(nèi)的企業(yè)擁有的專利數(shù)應(yīng)該是企業(yè)成立的自然年的年度數(shù)*5。也就是說(shuō)若企業(yè)成立2年就申報(bào)高新技術(shù)企業(yè)，企業(yè)需要擁有不低于10個(gè)專利，若企業(yè)成立1個(gè)年度，則需要不低于5個(gè)專利。

此外，科技成果轉(zhuǎn)化能力對(duì)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定來(lái)講也至關(guān)重要。科技成果轉(zhuǎn)化要求3年內(nèi)科技成果轉(zhuǎn)化的年平均數(shù)需5項(xiàng)以上，細(xì)化得分標(biāo)準(zhǔn)如下：

注：如果要拿到30分，必須要有12個(gè)技術(shù)開發(fā)合同或者12個(gè)技術(shù)服務(wù)合同或者12個(gè)銷售合同（分別針對(duì)不同產(chǎn)品）

我國(guó)當(dāng)前的專利審核還處于一個(gè)較為寬松的階段，但是如果連實(shí)用新型專利也無(wú)法申請(qǐng)的技術(shù)點(diǎn)，其技術(shù)含量可想而知。所以，技術(shù)訣竅這類遠(yuǎn)達(dá)不到申請(qǐng)專利的級(jí)別的科技成果很容易不通過(guò)，而高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定一般審核的是企業(yè)近三個(gè)會(huì)計(jì)年度的資料。由此計(jì)算：每年不低于5個(gè)科技成果轉(zhuǎn)化，即15-18個(gè)專利，相對(duì)是保險(xiǎn)的。

所以，如果從核心自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)得分的細(xì)則深入研究會(huì)發(fā)現(xiàn)，專利的數(shù)量越多，得分高的可能性越大。根據(jù)企業(yè)所屬領(lǐng)域并不一定都要一味追求發(fā)明專利，特別是對(duì)于配方類的發(fā)明專利其技術(shù)含量未必比實(shí)用新型高，只是因?yàn)榕浞胶头绞椒椒ㄖ荒苌暾?qǐng)發(fā)明專利罷了。

下面從其他角度入手來(lái)探討下高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定對(duì)專利的隱含要求。