三星被裁定侵犯韓國一大學專利案例

據(jù)外媒報道，美國德克薩斯州一家聯(lián)邦地方法院的陪審團周五裁定，三星電子侵犯韓國一家大學的專利，需向后者賠償4億美元。

三星電子侵犯韓國科學技術院的專利與“FinFet”（鰭式場效應晶體管）相關，它是一種新的互補式金氧半導體晶體管。FinFET命名根據(jù)晶體管的形狀與魚鰭的相似性，這種設計可以改善電路控制并減少漏電流，縮短晶體管的閘長。

韓國科學技術院的專利部門KAIST IP在訴訟中指出，三星電子最初并不看好FinFet技術研究，認為它只是一種時尚。但是在三星電子的競爭對手英特爾開始授權這項專利并開發(fā)自己的產品后，這一切都發(fā)生了變化。2011年，英特爾推出商業(yè)化的FinFET，并把它使用在22納米節(jié)點的工藝中。三星電子在2015年率先把FinFET技術應用于10納米制程。

作為當前全球最大的芯片制造商，三星電子向陪審團表示，該公司與韓國科學技術院共同合作開發(fā)FinFet技術，否認侵犯了該技術專利。三星電子還對專利的有效性提出了質疑。

陪審團在經(jīng)過審理后裁定，三星電子的侵權行為屬于“故意”或有意為之，這意味著法官可以將損害賠償額提高到陪審團設定的三倍。

這起訴訟案標志著韓國頂尖科研機構與對該國經(jīng)濟至關重要的公司之間的沖突。

截至目前，雙方的辯護律師均拒絕對裁定發(fā)表評論。

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